高純蕪湖氧化鎂粉體材料是重要的耐高溫材料，其制備的氧化鎂陶瓷廣泛應用于透光材料領域。透明氧化鎂陶瓷是一種光學各向同性體，具有較好的耐堿金屬蒸氣腐蝕性、高熔點、高導熱性、較小的理論密度、高絕緣及高紅外透過性等優(yōu)點。高品質(zhì)的耐火透明氧化鎂陶瓷是一種很有前景的材料，其性能優(yōu)于氧化鋁陶瓷，在可見光及紅外透光材料領域具有廣泛的應用。

一、高純MgO粉體制備方法

高純氧化鎂粉體是指MgO質(zhì)量分數(shù)大于99%（國內(nèi)一般指MgO質(zhì)量分數(shù)大于98%），體積密度大于3.40g/cm3的燒結氧化鎂。高純MgO的制備均以含鎂化合物為原料，部分制成輕燒氧化鎂后再經(jīng)過電熔或重燒制得高純氧化鎂，部分直接煅燒或熱解制得高純氧化鎂。目前主要制備方法有直接煅燒法、鹵水沉淀法、鹵水直接熱解法、電熔法。

立方塊狀高純氧化鎂粉體是通過電熔法制備，粒徑分布均勻，可用于制備透明氧化鎂陶瓷以及電子材料填料等。此外，電熔法還可用來制備單結晶MgO，純度超過99.9%，被廣泛用作新材料薄膜襯底，例如高溫超導膜、MRAM的鐵電膜等。

球形氧化鎂的導熱系數(shù)可達球形氧化鋁的1.5倍，大大增強了材料設計在熱管理上的靈活度，被稱為接棒球形氧化鋁的“下一代導熱填料”。粉體圈于2021年07月08日針對球形氧化鎂進行了報道，詳見《氧化鎂導熱填料大熱，Denka彰顯粉體球形化技術底蘊》。

菱面片狀氧化鎂粉體制備是以低品位白云石為原料，采用鹵水沉淀法，通過二次酸浸、氨水沉淀法制備前驅(qū)體氫氧化鎂，經(jīng)煅燒得到菱面片層狀多空隙結構的納米MgO晶體，該氧化鎂為結晶良好、立方晶系，厚度約10～20nm，更大面積可達1μm2左右的類似菊花狀的二維菱面片層狀空隙結構，廣泛應用于陶瓷材料、化妝品、油漆、橡膠填充劑、催化劑載體等領域,在軍事、量子器件、微電子學等領域亦有重要的應用前景和巨大的經(jīng)濟潛力。

目前關于透明氧化鎂陶瓷工藝的研究方向大多集中于熱壓燒結制度的確定。透明陶瓷的燒結方法有很多種，主要有常壓燒結、熱壓燒結、熱等靜壓燒結、放電等離子燒結等。

透明氧化鎂陶瓷是一種呈透明狀的MgO陶瓷。屬立方晶系，熔點2800℃。它以高純MgO為原料，添加少量晶粒生長抑制劑，采用熱壓或常壓燒結工藝制成。

高純氧化鎂具有較大的表面活性和高溫特性且純度高，因此陶瓷濾波器中一般用到氧化鎂來保證濾波器有較好的傳導性，機械強度和耐高溫性。微波介質(zhì)陶瓷作為一種新型電子材料，隨著5G正式投入商用，全國5G基站也將連片覆蓋，微波介質(zhì)陶瓷作為濾波器也在5G基站建設中被廣泛應用。高純氧化鎂通常會影響到濾波器的三個參數(shù)：相對介電常數(shù)、品質(zhì)因數(shù)、諧振頻率溫度系數(shù)。

高純氧化鎂與氧化鋁一起制備熔融陶瓷顆粒，可廣泛應用于磨具領域。與稀土氧化物一起作為燒結助劑，制備氮化硅陶瓷，可高效、經(jīng)濟地制造各種復雜形狀的產(chǎn)品，如切削刀具、密封環(huán)、軸承、噴嘴及各種耐高溫、耐磨損、耐腐蝕制品等。

制成的氧化鎂陶瓷型芯使用溫度不低于1600℃，高溫條件下不與澆注金屬反應，鑄件表面光滑，彌補了使用硅基型芯澆鑄此類材料時，鑄件內(nèi)孔會產(chǎn)生大量氣孔和粘砂等缺陷;溶失性優(yōu)良，能很好的溶解于弱酸中，脫芯時間短，脫芯設備簡單，脫芯工藝無污染、安全可靠，降低了精密鑄造成本;澆注空心薄壁鑄件不發(fā)生熱裂;型芯尺寸精度高;有足夠的強度，在造型、搬運和裝爐時不變形、不破碎。

以高純氧化鎂和氧化釔或稀土金屬氧化物為復合穩(wěn)定劑燒成及熱處理制成的力學性能優(yōu)良，抗高溫老化的部分穩(wěn)定氧化鋯陶瓷。該陶瓷材料可廣泛用作高溫工程部件及耐火材料。